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高纯纳米二氧化钛系列粉体、3Y氧化锆、5Y氧化锆、8Y氧化锆、超活性纳米二氧化钛光...

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纳米二氧化硅抛光粉 半导体材料抛光
发布时间:2025-04-27        浏览次数:0        返回列表

    纳米二氧化硅抛光粉 半导体材料抛光

基本信息:

CAS#:14808-60-7 

分子式:SiO2,分子量:60.08

纳米二氧化硅抛光粉颗粒均匀,分散性好,镜面效果好,广泛用于多种材料纳米级的平坦化抛光。

技术指标:

型号

外观

粒径

纯度

应用

VK-Sp30F

白色粉末

30nm

99.8%

精细抛光

VK-Sp100F

白色粉末

100nm

99.8%

精细抛光

100nm,500nm800nm的。

抛光特点:

具有应用领域广、抛光效率高、抛光亮度高,光泽细腻、解决材料表面粗糙度、波纹度和表面缺陷等问题。 

抛光范围:

硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,光学器件、金属镜面抛光、蓝宝石片等的抛光加工。 

包装:10公斤/袋。

储藏:常温密闭储藏。

宣城晶瑞新材料 甘生18620162680 (微)。